ファブラトリーでは、ベイク処理の段階で、線幅制御に必要な熱的条件が決定されます。ソフトベイクやハードベイク時の2°Cの誤差があると、CDバイアスが変わり、スカミングが発生し始めます。このようなばらつきを解消するために、私たちはカーボンナノチューブを利用したヒーターを開発しました。
技術的に重要な点 チャック全体において、ウェーハレベルでの温度均一性は±0.1°Cであり、設定値の再現性は±0.2°C以内です。カーボンナノチューブを利用したヒーターは反応が速く、安定して動作します。また、石英を使用しない設計により、粒子の発生も抑えられます。このヒーターはクラス1～100のクリーンルームで使用でき、プロセスチャンバー内にガスが漏れ出すこともなく、レジストに影響を与えるようなホットスポットもありません。ランプ制御により、熱プロファイルがレジストの化学的特性に合わせて調整され、ヒーターの過剰な加熱を防ぎます。
なぜリソグラフィーに適しているのか リソグラフィーにおいて、ソフトベイク時の温度安定性は溶剤の除去やフィルムの応力に影響を与えます。一方、ハードベイク時の安定性は接着力やエッチング耐性に影響を与えます。このヒーターを使用することで、CDのばらつきが減少し、再作業が少なくなり、線幅が安定します。また、予測可能なメンテナンス間隔で24時間365日稼働できるため、計画外の停止時間も減少します。さらに、ヒーターが効率的に加熱し、温度を維持できるため、エネルギー消費も低減されます。
必要な詳細 このヒーターには、専用のフィルタ付き電源供給装置と、チャックにしっかり固定されるための構造が必要です。インターフェースが不適切だと、温度の均一性が損なわれます。ご自身のレジストの特性に合わせて、ランプ速度を調整するためのテスト運転を行ってください。一度調整すれば、プロセスの安定性が向上し、ロット間でも温度特性が再現されます。