ファブの現場では、ソフトベイクやウェーハの乾燥中に生じる熱的なずれは、単なるボトルネックにとどまりません。それによって重要な寸法が変化し、残留物が残り、結果として歩留まりが低下します。私たちは、このような熱的なずれを根本から解決するために、高速応答型の赤外線ヒーターを開発しました。
技術的に重要な点 当社の製品は、石英製のケース内に短波長の赤外線ハロゲン素子を使用しているため、数秒以内で高い放射密度を実現できます。アクティブゾーン全体でのウェーハ表面の温度均一性は±0.1℃以内で保たれ、加熱後も設定値の再現性は±0.5℃以内です。冷却状態から安定した状態に至るまで、出力が安定しており、ホットスポットによる問題もありません。また、これらのヒーターはクラス1～100のクリーンルームでの使用を想定して設計されており、粒子の発生を極力抑えるために適切な形状や材料が選ばれています。24時間365日稼働しても、出力の低下は5％未満で済みます。
実際に効果的な理由 リソグラフィーにおいて、ソフトベイクはフォトレジストの形状を決定し、ハードベイクがその形状を固定します。当社の赤外線ヒーターにより、熱的なずれが迅速に解消されるため、溶剤が沸騰することなく除去されます。同じ速さで、洗浄後のウェーハの乾燥も迅速かつ均一に行われ、水痕が残ることがなく、表面エネルギーの制御も容易になります。その結果、処理時間が短縮され、再作業や廃棄物が減少します。また、従来のヒーターと比べて、ヒーターがより低温で動作し、設定値に早く到達するため、エネルギー消費も削減されます。
注意すべき点 設置時には、正確な光学的位置合わせと専用の反射装置が必要です。位置合わせが不正確だと、ウェーハ表面に不均一な領域が生じます。また、ヒーターには清潔な電力が必要であり、電圧の変動やノイズがあると出力に影響が出ます。そのため、シールド付きの電源を使用し、導入する前に機器の性能を十分にチェックする必要があります。