RTPシステム用ハロゲンランプ

ファブの現場では、フォトレジストの焼成時にウェーハ表面で0.2℃もの温度変動が生じると、ウェーハの均一性や歩留まりが低下してしまいます。RTPでは、そのランプは単なる熱源に過ぎず、むしろ熱的な均一性や再現性を決定づける重要な要素です。 私たちがRTPシステム用に製造するハロゲンランプは、高いスペク...