なぜ半導体の乾燥に赤外線を使用するようにしたのか？ 業界では「グリーン」でハロゲンフリーな製品が求められています。それは良いことですが、ウェーハをどのように乾燥させるかという点で大きなプレッシャーがかかっています。長年にわたり、私たちは対流オーブンを利用してきました。しかし問題は、大量の空気を加熱...

IRランプが爆発性の化学物質に触れたときの安全対策 半導体を洗浄する際、実際には火を扱っているようなものです。それらの溶剤は可燃性があり、場合によっては爆発的な性質を持っています。通常のIRランプをその環境に使えば、災害を招くことになります。 だからこそ、私たちは金メッキされた短波長IRランプを使...

製造現場では、フォトレジストの焼成処理中に温度が1℃変動するだけで、線幅がナノメートル単位で変わってしまいます。それだけ多くの製品が廃棄されてしまうことになります。したがって、温度を一定に保つことが重要です。私たちは、設定値だけでなく、ウェーハ自体の温度も正確に制御できるように、OEM用の半導体ヒ...

ファブの現場では、フォトレジストを加熱する際にホットプレートの温度が0.5°C程度変動するだけでも、線幅の制御が崩れてしまい、製品が不良品になってしまいます。したがって、ヒーターの局所的な高温部分ではなく、設定された温度値に沿った正確な温度測定が必要です。 技術的に重要な点 半導体用ヒーター用の熱...

製造現場では、熱ドリフトは0.1度未満の単位で測定される。フォトレジストのベイク中に0.5℃の変動があれば、クリティカル寸法に影響を及ぼし、熱ゾーンの制御が緩いとウエハを損傷する粒子が侵入する。目標は最高温度を追うことではなく、熱エネルギーを高精度かつ再現性をもって制御することである。 技術的に重...