쿼츠 할로겐 적외선 방출기
리소그래피 공정에서는, 소프트 베이크 과정에서의 약 반도의 온도 변화만으로도 치명적인 오류가 발생할 수 있습니다. 포토레지스트 내의 용매 제거 과정도 일관성을 잃게 되고, 그 결과 하드 베이크 과정에서 그러한 오류가 고착됩니다. 웨이퍼 전체의 온도 균일성은 단순한 장...
RTP 시스템용 할로겐 램프
팹에서는 포토레지스트를 가열하는 과정에서 웨이퍼의 온도가 0.2°C만큼 변동될 수 있습니다. 이러한 미세한 온도 변동은 웨이퍼의 품질과 수율에 악영향을 미칩니다. RTP 시스템에서는 해당 램프가 단순한 열원일 뿐만 아니라, 온도의 균일성과 반복성을 결정하는 핵심 요소...