왜 반도체 건조에 적외선을 사용하는가? 업계는 ‘친환경적이고 수은이 없는’ 기술을 채택하려고 노력하고 있습니다. 이는 좋은 일이지만, 웨이퍼를 건조하는 방식에 큰 압박을 가합니다. 오랫동안 우리는 대류식 오븐을 사용해왔습니다. 문제는, 이러한 오븐들이 엄청난 양의 공...

IR 램프가 폭발성 화학물질과 접촉할 때 안전을 유지하는 방법 반도체를 청소할 때는 마치 불을 다루는 것과 같습니다. 그러한 용매들은 발화성이 있으며, 경우에 따라서는 직접적으로 폭발할 수도 있습니다. 일반적인 적외선 램프를 그런 환경에 사용한다면, 재앙을 초래할 수...

팹에서는 포토레지스트를 가열하는 과정에서 1°C만큼의 온도 변화가 발생해도 회로선의 굵기가 나노미터 단위로 변할 수 있습니다. 이는 엄청난 양의 원자재 낭비를 의미합니다. 따라서 온도를 일정하게 유지하는 것이 중요합니다. 저희는 단순히 설정된 온도만을 유지하는 것이...

제조 현장에서는, 포토레지스트를 가열할 때 히트플레이트의 온도가 0.5°C만 변동해도 선폭 제어에 문제가 생기고, 그 결과 제품이 폐기되는 경우가 있습니다. 따라서 온도 측정은 설정된 값에 맞게 이루어져야 하며, 히터의 특정 부위의 온도에 의존해서는 안 됩니다. 기술...

공정 현장에서는 열 이동이 1도 미만의 분수 단위로 측정된다.포토레지스트 베이크 중 0.5°C의 편차는 치명적인 치수 변화를 초래할 수 있으며, 열 구역이 엄격하지 않으면 웨이퍼를 손상시키는 입자가 유입된다. 목표는 최고 온도를 추적하는 것이 아니라 열 에너지를 정밀...