リソグラフィーの工程においては、ソフトベイクのプロファイルにわずか0.5度のずれがあるだけで、重要な寸法制御が狂ってしまいます。フォトレジスト中の溶剤の除去が不均一になり、その結果、ハードベイク時にそのエラーが固定されてしまいます。ウェーハ全体の温度均一性は特典ではなく、むしろ工程の基本条件です。...

ファブの現場では、フォトレジストの焼成時にウェーハ表面で0.2℃もの温度変動が生じると、ウェーハの均一性や歩留まりが低下してしまいます。RTPでは、そのランプは単なる熱源に過ぎず、むしろ熱的な均一性や再現性を決定づける重要な要素です。 私たちがRTPシステム用に製造するハロゲンランプは、高いスペク...