製造現場では、フォトレジストの焼成処理中に温度が1℃変動するだけで、線幅がナノメートル単位で変わってしまいます。それだけ多くの製品が廃棄されてしまうことになります。したがって、温度を一定に保つことが重要です。私たちは、設定値だけでなく、ウェーハ自体の温度も正確に制御できるように、OEM用の半導体ヒーターを開発しました。
重要なポイント このヒーターは、石英製のケース内に短波長赤外線を発するハロゲン発光体を使用しているため、温度上昇の速度が速く、安定した制御が可能です。重要な指標は、活性領域全体での温度均一性であり、その値は±0.1℃以内です。また、クラス1～100の清浄室でも使用でき、粒子の発生もありません。出力の再現性も、24時間連続稼働しても±0.2％以内です。さらに、フォトレジストのソフトベイクやハードベイクに最適化された熱応答特性を持っています。200/300mmウェーハ用にも対応しており、標準的な電圧で使用でき、コンパクトなサイズなのでOEM装置にも容易に搭載できます。
なぜ生産現場で有用なのか リソグラフィーやパッケージング工程において、このヒーターを使えば、焼成プロセスを安定させることができ、再作業の必要がなくなります。高い温度均一性により、ウェーハ間のCD誤差が減少し、微細なノードでの歩留まりが向上します。また、サイクルが速く安定しているため、1ロットあたりの処理時間が短縮されます。さらに、清浄室対応の設計により、粒子の発生が抑えられ、クリーニングやアラームの頻度も減少します。エネルギー消費も、正確な発光体のマッチングと低い熱容量によって最適化されているため、ウェーハあたりのコストが削減されます。交換時も、プロセスチャンバーを分解する必要がないため、計画外の停止時間が減少します。
注意点 光学部品やポリマーに不要な熱が伝わらないように、適切なソケットや遮蔽策が必要です。所定の温度均一性が得られるまでにはウォームアップ時間が必要ですので、これをメンテナンス計画に組み込む必要があります。最良の安定性を得るためには、指定された電圧範囲内で使用し、周囲の温度も適切に管理する必要があります。当社は主要なOEMプラットフォームとの連携もサポートしていますが、実際に使用する前には、お客様の装置チームによってピン配置や取り付け方法、冷却システムを確認してください。