ファブの現場では、フォトレジストを加熱する際にホットプレートの温度が0.5°C程度変動するだけでも、線幅の制御が崩れてしまい、製品が不良品になってしまいます。したがって、ヒーターの局所的な高温部分ではなく、設定された温度値に沿った正確な温度測定が必要です。
技術的に重要な点
半導体用ヒーター用の熱電対を製造する際には、ウェーハ全体の温度が±0.1°C以内に保たれるようにし、また、異なるロット間でも再現性が保たれるようにします。センサーの位置は、ウェーハが実際に温度を感じる場所に配置されます。つまり、ヒーターブロックの最も高温になる場所ではありません。
この装置はクラス1～100の清浄室で使用できます。粒子の発生を防ぎ、繰り返される温度変化にも耐えられます。24時間365日稼働しても出力が安定し、計画外の停止や予測可能なメンテナンス間隔が得られます。
リソグラフィーにおける有効性
リソグラフィーでは、加熱処理時に厳格な温度管理が求められます。私たちの熱電対によって、温度のばらつきが抑えられ、フォトレジストの性能が向上し、不良品の削減につながります。
また、厳格な制御によって、過剰な加熱を防ぎ、資源の消費も削減されます。その結果、歩留まりが向上し、再作業が減少し、設備の運用も予測可能になります。
正しく設置するために必要なこと
設置精度は非常に高く、プローブは指定された深さに正確に配置され、ウェーハ面と平行になっている必要があります。位置ずれや十分でない熱接触により、温度の均一性が損なわれ、不安定になります。
このシステムはほとんどのヒータープラットフォームで動作しますが、既存の装置に取り付ける場合は、カスタムのブラケットやコネクタが必要になることがあります。ヒーターモデルや処理温度範囲を明記していただければ、シース材料や絶縁材、校正曲線をお客様の温度プロファイルに合わせて調整できます。