在光刻工艺中，如果“Soft Bake”阶段的温度控制出现半度的偏差，就足以导致关键尺寸控制失灵。此时，光刻胶中的溶剂去除效果会变得不稳定，而“Hard Bake”阶段则会让这种误差固定下来。对于晶圆来说，温度均匀性并非额外的优势，而是工艺流程中不可或缺的条件。 从技术角度而言，重要的是什么？ 石...

在光刻工厂里，光阻烘烤过程中，晶圆表面的温度可能会发生0.2°C的波动。这样的微小变化就会影响光刻工艺的精度和成品率。在RTP系统中，那盏灯不仅仅是一个热源，它还决定了整个系统的温度均匀性和重复性。 我们为RTP系统设计的卤素灯具有出色的光谱控制能力和快速响应速度。其灯丝结构、石英外壳以及反射器设...