Pada proses pembakaran tersebut, suhu yang dihasilkan berubah sebanyak 0.2°C, dan sifat fotoreseptor juga berubah. Keseragaman suhu pada permukaan wafer menjadi tidak konsisten. Ini menyebabkan perlu dilakukan kerja-kerja pembaikan berkali-kali. Dalam proses litografi, kestabilan termal bukanlah sesuatu yang boleh diabaikan – ia merupakan syarat penting dalam proses tersebut.
Apa yang penting di sebaliknya
Kami membina pemanas vakum Leybold menggunakan unsur-unsur inframerah gelombang pendek serta struktur termal berasaskan kuarsa. Struktur ini memastikan keseragaman suhu pada permukaan wafer pada tahap ±0.1°C. Badan pemanas ini direka khusus untuk memastikan integriti vakum, dengan flange yang sesuai serta penghujung yang dilindungi untuk mengelakkan pelepasan gas dan pembentukan zarah-zarah berbahaya. Kami menyesuaikan rintangan dan geometri pemanas agar ketumpatan tenaga tetap stabil pada voltan yang diharapkan oleh ruang pemprosesan tersebut. Dengan cara ini, suhu dapat dikawal dengan baik, dan kekerapan berlakunya kecacatan juga dapat dikurangkan.
Mengapa ia berfungsi dengan baik dalam proses pengeluaran
Proses pembakaran lembut dan keras dilakukan dalam keadaan vakum untuk mengawal penyingkiran pelarut dan aliran fotoreseptor. Dengan pemanas ini, nilai suhu dapat dipertahankan dari satu kitaran ke kitaran yang lain, sehingga kawalan ketebalan garisan dan kekerapan berlakunya kecacatan dapat dilakukan dengan baik. Keserasian dengan bilik bersih kelas 1–100 juga terpelihara, kerana bahan-bahan yang digunakan mempunyai kadar zarah yang rendah, dan reka bentuknya mampu melindungi pemanas daripada keretakan akibat suhu yang tinggi. Hasilnya, masalah yang timbul dapat dikurangkan, produktiviti tetap stabil, dan masa penyelenggaraan dapat dirancang dengan lebih baik.
Butir-butir yang memastikan tiada masalah
Penyesuaian pemanas ini dengan ruang pemprosesan memerlukan ketepatan yang tinggi. Pastikan jenis flange, susunan pin, dan lokasi komponen termal telah disahkan sebelum mengganti unit lama. Jika tidak, suhu yang dihasilkan tidak akan sesuai dengan spesifikasi yang diharapkan. Perlu ada tempoh penyesuaian yang singkat selepas pemasangan agar dinamik haba ruang pemprosesan dapat dipelajari semula. Selepas itu, keseragaman dan ketepatan suhu akan menjadi stabil.