Di dalam bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran lembut atau pengeringan wafer bukan sekadar masalah kecil. Perubahan suhu ini akan mengubah dimensi penting wafer, dan meninggalkan sisa-sisa yang boleh menyebabkan penurunan kualiti wafer. Kami telah mencipta pemanas inframerah yang berkuasa tinggi untuk mengatasi masalah ini dari awal.
Apa yang penting dari segi teknikal:
Kami menggunakan unsur halogen inframerah berfrekuensi rendah yang diletakkan dalam selubung kuarza. Ini membolehkan penghasilan tenaga radiasi yang tinggi dengan masa tindak balas yang sangat cepat. Suhu di kawasan aktif wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula kekal pada tahap ±0.5°C selepas proses pemanasan. Keluaran pemanas tetap stabil daripada permulaan hingga ke keadaan stabil—tiada perubahan suhu yang boleh mengganggu aliran bahan fotorezist. Pemanas ini direka khas untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dengan reka bentuk yang memastikan penggunaan bahan yang bebas daripada zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Pemanas ini boleh beroperasi selama lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan keluaran yang signifikan, walaupun digunakan 24/7.
Mengapa cara ini berkesan dalam praktiknya:
Dalam proses litografi, proses pembakaran lembut digunakan untuk menetapkan profil bahan fotorezist, manakala proses pembakaran keras pula digunakan untuk meng固定 profil tersebut. Pemanas inframerah kami membantu mengurangkan perubahan suhu dengan cepat, sehingga pelarut dapat disingkirkan tanpa menyebabkan filem fotorezist mendidih. Kelajuan yang sama juga membantu proses pembersihan—pengeringan wafer menjadi lebih cepat dan seragam, sehingga dapat mengurangkan kesan air pada permukaan wafer. Hasilnya: masa proses yang lebih singkat, kurangnya keperluan untuk memproses semula wafer, dan pengurangan sisa bahan. Penggunaan tenaga juga berkurangan kerana pemanas ini beroperasi pada suhu yang lebih rendah dan dapat mencapai suhu yang ditetapkan dengan lebih cepat berbanding pemanas konvensional.
Apa yang perlu dipertimbangkan:
Pemasangan pemanas ini memerlukan penyesuaian optik yang tepat serta laluan pantulan yang sesuai. Jika ada kesilapan penyesuaian, ia akan menyebabkan ketidakseragaman suhu pada permukaan wafer. Pemanas ini juga memerlukan bekalan kuasa yang bersih; gangguan voltan boleh menyebabkan keluaran pemanas tidak stabil. Pastikan bekalan kuasa yang digunakan bersih, dan uji kualiti peralatan tersebut sebelum digunakan.