팹에서는 포토레지스트를 가열하는 과정에서 웨이퍼의 온도가 0.2°C만큼 변동될 수 있습니다. 이러한 미세한 온도 변동은 웨이퍼의 품질과 수율에 악영향을 미칩니다. RTP 시스템에서는 해당 램프가 단순한 열원일 뿐만 아니라, 온도의 균일성과 반복성을 결정하는 핵심 요소입니다.
우리는 스펙트럼 제어가 우수하고 반응 속도가 빠른 할로겐 램프를 RTP 시스템용으로 제작합니다. 필라멘트의 구조, 석영 케이스, 그리고 반사판의 설계 모두 웨이퍼 전체의 온도가 ±0.1°C 내로 유지되도록 최적화되어 있습니다. 수천 번의 작동 후에도 출력이 일정하게 유지되므로, 로트별로 온도 변동이 발생하지 않습니다. 또한, 저방출 재료와 입자 관리가 철저히 이루어져 청정실 환경에서도 안정적으로 작동할 수 있습니다.
포토리소그래피 과정에서는 소프트 베이크와 하드 베이크 단계에서 정확한 온도 조절이 필요합니다. 우리의 램프는 빠르게 온도를 조절하여 램핑 시간을 단축시키고, 온도의 급격한 변동을 방지합니다. 그 결과, 로트별로 포토레지스트의 성능이 일관되게 유지되며, 재작업도 줄어듭니다. 또한, 에너지 사용량도 줄어들어 비용 절감에 도움이 됩니다. 램프는 필요에 따라만 가열되므로 대기 상태에서의 에너지 손실도 최소화됩니다. 또한, 24/7 연속 작동을 위해 설계되어 계획되지 않은 가동 중단도 줄어듭니다.
할로겐 램프의 단점은 반응 속도는 빠르지만, ±0.1°C라는 목표치를 유지하기 위해서는 안정적인 전력 공급과 적절한 냉각이 필요하다는 것입니다. 램프를 챔버의 구조에 맞게 선택해야 하며, RTP 컨트롤러와의 전기적 호환성도 반드시 확인해야 합니다. 필라멘트의 수명도 제한적이므로, 공정 볼륨에 맞춰 정기적으로 교체해 주어야 합니다. 램프를 단순한 소모품이 아닌 정밀한 부품으로 간주하여 관리한다면, 열 처리 공정을 안정적으로 유지할 수 있습니다.