RTP 시스템용 할로겐 램프

팹에서는 포토레지스트를 가열하는 과정에서 웨이퍼의 온도가 0.2°C만큼 변동될 수 있습니다. 이러한 미세한 온도 변동은 웨이퍼의 품질과 수율에 악영향을 미칩니다. RTP 시스템에서는 해당 램프가 단순한 열원일 뿐만 아니라, 온도의 균일성과 반복성을 결정하는 핵심 요소...