Op de productielijn worden de stappen die nodig zijn voor het bakken van de wafer uitgevoerd. Hier wordt ook bepaald hoeveel warmte er moet worden gebruikt om de dikte van de wanden van de wafer onder controle te houden. Een afwijking van 2°C tijdens het zachte of harde bakproces heeft invloed op de kwaliteit van de wafer en kan leiden tot ongewenste effecten. We hebben een verwarmer gemaakt op basis van koolstofnanobuizen, zodat deze variabiliteit kan worden verminderd.
Wat technisch gezien belangrijk is:
Er moet sprake zijn van een thermische uniformiteit van ±0,1°C over het hele oppervlak van de wafer, met een herhalbaarheid van ±0,2°C. De verwarmer op basis van koolstofnanobuizen reageert snel en blijft stabiel. Bovendien zorgt het ontwerp zonder kwarts voor minder deeltjesvorming. De verwarmer kan worden gebruikt in schone kamers van klasse 1–100; er komt geen gas vrij dat de proceskamer kan beïnvloeden, en er zijn geen hete punten die de resist kunnen beschadigen. De temperatuurregeling zorgt ervoor dat de temperatuur goed past bij de chemische eigenschappen van de resist.
Waarom dit werkt in de lithografie:
Bij lithografie heeft de temperatuurstabiliteit tijdens het zachte bakproces invloed op het verwijderen van oplosmiddelen en op de spanning in de film. De stabiliteit tijdens het harde bakproces bepaalt de hechting en de weerstand tegen etching. Met deze verwarmer worden de afwijkingen in de dikte van de wanden van de wafer verminderd, waardoor er minder herwerkingswerk nodig is. De verwarmer kan 24/7 draaien, met regelmatige onderhoudsintervallen. Hierdoor wordt onverwacht stilstand verminderd. De energieverbruik is ook lager, omdat de verwarmer efficiënt warmte kan leveren en de temperatuur kan behouden zonder dat deze sterk varieert.
De details die je nodig hebt:
De verwarmer heeft een speciale, gefilterde voedingsbron nodig, evenals een goede thermische verbinding met deChuck. Onjuiste verbindingen zorgen voor ongelijkmatigheden in de temperatuur. Plan eerst een kort testproces om de temperatuurregeling af te stemmen op jouw specifieke resistlaag. Zodra dit is gedaan, kan het proces soepel verlopen, en blijft de temperatuur consistent van batch tot batch.