Di lantai produksi, langkah-langkah pemanasan inilah yang menentukan batas suhu yang diperlukan untuk mengontrol ketebalan garis pada permukaan wafer. Perubahan suhu sebesar 2°C selama proses pemanasan akan mempengaruhi nilai CD bias, sehingga menyebabkan munculnya gangguan pada permukaan wafer. Kami telah membuat pemanas berbasis karbon nanotube untuk mengatasi masalah ini.
Apa yang penting secara teknis? Di seluruh area pemrosesan, tingkat keseragaman suhu pada tingkat wafer mencapai ±0,1°C, dengan tingkat repetibilitas setpoint sekitar ±0,2°C. Elemen pemanas berbahan karbon nanotube ini bereaksi cepat dan tetap stabil. Desainnya yang bebas dari unsur kuarsa juga membantu mengurangi pembentukan partikel-partikel kecil. Pemanas ini dapat digunakan di ruang bersih kelas 1–100, tanpa adanya emisi gas ke dalam ruang proses, serta tanpa adanya titik panas yang dapat merusak lapisan resisten pada wafer. Kontrol suhu yang baik memungkinkan profil suhu sesuai dengan karakteristik kimia resisten tersebut, bukan sekadar mengikuti rentang suhu yang ditentukan oleh pemanas itu sendiri.
Mengapa hal ini efektif dalam proses litografi? Dalam proses litografi, stabilitas suhu selama proses pemanasan berperan penting dalam proses penghilangan pelarut dan pengendalian tegangan pada lapisan film. Stabilitas suhu juga mempengaruhi kemampuan lapisan film untuk menempel dan tahan terhadap proses etching. Dengan pemanas ini, penyimpangan nilai CD berkurang, waktu perbaikan berkurang, dan kualitas garis pada wafer menjadi lebih baik. Pemanas ini dapat beroperasi 24/7 dengan interval perawatan yang teratur, sehingga waktu henti yang tak terduga berkurang. Penggunaan energi juga lebih rendah, karena pemanas ini dapat memanaskan wafer dengan efisien dan menjaga suhu tetap konstan tanpa perlu menghidupkan dan mematikan pemanas secara berulang-ulang.
Detail yang diperlukan: Pemanas ini membutuhkan sumber daya listrik yang khusus dan telah diproses agar bersih, serta sistem penahanan termal yang baik agar pemanas dapat berfungsi dengan optimal. Jika antarmuka antara pemanas dan sistem penahanan termal tidak sesuai, maka keseragaman suhu akan terganggu. Lakukan uji coba singkat untuk menyesuaikan laju pemanasan sesuai dengan karakteristik resisten yang digunakan. Setelah disetel dengan benar, proses produksi akan berjalan lancar, dan profil suhu akan tetap konsisten dari satu batch ke batch berikutnya.