在制造过程中，烘烤步骤决定了控制线宽所必需的热平衡。如果软烘或硬烘的温度出现2°C的波动，就会导致CD值发生偏移，进而引发不良效应。我们设计了碳纳米管加热器，以此来消除这种波动。
从技术层面来看，重要的是什么？ 整个晶圆上的温度均匀性应保持在±0.1°C以内，而设定点的重复性则应在±0.2°C范围内。碳纳米管加热器反应迅速且稳定性高，而且由于没有石英成分，因此不会产生颗粒物。该加热器可在1级到100级的洁净室中使用，不会向工艺腔内释放任何气体，也不会产生可能影响光刻质量的温度异常点。通过精确控制升温速率，可以确保温度始终与光刻材料的特性相匹配，从而避免因加热器性能问题导致的误差。
为什么它能在光刻工艺中发挥作用？ 在光刻过程中，软烘时的温度稳定性有助于去除溶剂并减少薄膜应力；而硬烘时的温度稳定性则有助于提升材料的附着力和耐蚀性。使用这种加热器后，CD值的波动会减少，返工率也会降低，从而让线条更加稳定。该加热器可以24/7持续运转，且维护周期可控，因此无需担心意外停机的情况。此外，由于其高效的加热性能以及稳定的温度控制能力，其能耗也相对较低。
需要了解的细节： 该加热器需要专用的、经过过滤的电源供应，同时还需要与晶圆台有良好的热连接——如果接口不匹配，就会影响温度的均匀性。建议进行一次短时间的调试，以调整升温速率，使其适合具体的光刻材料。一旦调整妥当，就能实现批次间温度的稳定性。