Mengapa kita menggantikan penggunaan udara panas dengan sinar inframerah dalam alat pemprosesan wafer
Jika anda ingin mempercepatkan proses pemprosesan semikonduktor, anda perlu mencari titik di mana masa terbuang. Bagi kebanyakan orang, masalahnya terletak pada proses pemanasan itu sendiri.
Kebanyakan sistem lama menggunakan udara panas untuk memanaskan wafer. Proses ini sangat lambat – udara perlu dipanaskan terlebih dahulu, barulah udara tersebut dapat memanaskan wafer. Ia sama seperti cuba memanaskan sebuah bilik menggunakan pemanas ruangan; prosesnya memerlukan masa yang lama.
Sebaliknya, penggunaan sinar inframerah mengelakkan keperluan menggunakan udara sebagai medium pemanasan. Sinar inframerah menggunakan gelombang elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Proses ini sangat cepat. Ini akan mengubah cara kerja alat pemprosesan wafer anda sepenuhnya.
Masalah berkaitan masa tindak balas
Apabila menggunakan kaedah konveksi paksa, anda perlu menunggu sehingga elemen pemanasan dan udara di sekelilingnya mencapai suhu yang sesuai sebelum wafer mula merasai kesan pemanasan. Proses ini sangat lambat.
Berbeza dengan lampu inframerah – sebaik sahaja suis dihidupkan, haba sudah wujud. Sebaik sahaja kuasa diputuskan, aliran haba akan berkurangan. Ini membolehkan anda mengawal suhu wafer dengan lebih baik. Anda tidak perlu menunggu lama untuk wafer mencapai suhu yang diinginkan.
Penjimatan ruang dan peningkatan keuntungan
Oleh kerana sinar inframerah tidak memerlukan ruang yang besar untuk menggerakkan udara, kawasan pemanasan dapat dikurangkan. Saiz alat pemprosesan wafer menjadi lebih kecil, yang tentunya merupakan kelebihan dalam fasiliti yang sesak.
Namun, kelebihan sebenar ialah peningkatan kelajuan pemprosesan wafer. Dengan mengelakkan keperluan menunggu udara bergerak, anda dapat menjimatkan beberapa saat dalam setiap kitaran pemprosesan. Dalam persekitaran yang memerlukan pengeluaran yang tinggi, beberapa saat ini boleh memberikan peningkatan yang signifikan dalam kapasiti pengeluaran.
Kelemahan (kerana sentiasa ada kelemahan)
Sinar inframerah bukanlah penyelesaian yang mudah digunakan. Memandangkan haba dari sinar inframerah bersifat terarah, ia boleh menyebabkan adanya kawasan yang terlalu panas atau terlalu sejuk pada wafer. Anda tidak boleh sekadar meletakkan lampu inframerah dan berharap suhu wafer akan stabil.
Anda perlu menggunakan sistem yang membolehkan pengagihan haba yang seragam, serta sensor yang tepat untuk mengawal suhu. Selain itu, jika sistem penyejukan tidak direka untuk menangani lonjakan haba yang cepat, ia akan menyebabkan masalah yang serius.
Kami mendapati bahawa cara terbaik untuk mengatasi masalah ini adalah dengan menggunakan kombinasi lampu inframerah dengan alat pengukur suhu yang berkelajuan tinggi. Ini adalah satu-satunya cara untuk memastikan suhu wafer tetap stabil, iaitu dalam lingkungan ±1°C.