Mengapa kita mengganti penggunaan udara panas dengan sinar IR dalam alat pemrosesan wafer
Jika Anda ingin mempercepat proses pemrosesan semikonduktor, Anda perlu mencari tahu di mana waktu terbuang sia-sia. Bagi banyak orang, hambatan utamanya adalah proses pemanasan.
Sebagian besar alat pemrosesan lama masih menggunakan udara panas sebagai sarana pemanasan. Proses ini sangat lambat: udara dipanaskan terlebih dahulu, baru kemudian udara tersebut memanaskan wafer. Hal ini mirip dengan upaya memanaskan suatu ruangan menggunakan pemanas ruangan—prosesnya membutuhkan waktu yang lama.
Sinar IR menghilangkan kebutuhan akan udara sebagai perantara. Sinar IR menggunakan radiasi elektromagnetik untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung. Prosesnya sangat cepat. Hal ini tentu saja mengubah segalanya dalam proses produksi Anda.
Masalah terkait waktu respons
Ketika menggunakan sistem konveksi paksa, Anda harus menunggu hingga elemen pemanas dan seluruh udara mencapai suhu yang tepat sebelum wafer mulai merasakan efek pemanasan. Proses pemanasan berlangsung lambat, begitu pula proses pendinginan.
Lampu IR berbeda. Begitu saklar dihidupkan, panas langsung muncul. Begitu aliran listrik diputus, aliran panas pun berkurang. Dengan demikian, Anda dapat mengontrol suhu wafer dengan lebih baik. Proses pemanasan dan pendinginan pun menjadi lebih cepat.
Menyimpan ruang dan meningkatkan efisiensi
Karena sinar IR tidak memerlukan ruang yang besar untuk menggerakkan udara, maka area pemanasan dapat dikurangi. Ukuran alat pun menjadi lebih kecil, yang tentu merupakan keuntungan besar di fasilitas produksi yang padat.
Namun, keuntungan sebenarnya terletak pada jumlah wafer yang dapat diproses per jam. Dengan cara ini, waktu yang dibutuhkan untuk setiap siklus berkurang drastis. Dalam lingkungan produksi yang intensif, peningkatan waktu tersebut berdampak signifikan pada kapasitas produksi.
Kelemahan (karena selalu ada kelemahan)
Sinar IR bukanlah solusi yang sempurna. Karena panasnya bersifat terarah, maka akan muncul risiko adanya daerah yang terlalu panas atau terlalu dingin di permukaan wafer. Anda tidak bisa hanya memasang lampu IR dan berharap suhu permukaan wafer tetap konstan.
Anda membutuhkan sistem pengatur suhu yang canggih, serta sensor yang akurat untuk mengimbangi suhu tersebut. Selain itu, jika sistem pendinginan Anda tidak dirancang untuk menangani lonjakan suhu yang cepat, maka akan terjadi masalah serius.
Kami menemukan bahwa cara terbaik untuk mengatasi hal ini adalah dengan menggabungkan sistem IR dengan piranometer berkecepatan tinggi. Itulah satu-satunya cara untuk menjaga suhu tetap stabil—dengan toleransi ±1°C.