<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Má Phun Phủ on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
		<link>http://ir-heater-now.com/vi/tags/m%C3%A1-phun-ph%E1%BB%A7/</link>
		<description>Recent content in Má Phun Phủ on Immediate Infrared Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>vi</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Mon, 01 Jun 2026 17:44:35 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-now.com/vi/tags/m%C3%A1-phun-ph%E1%BB%A7/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Bộ phát triển lớp phủ máy sấy hồng ngoại</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/vi/posts/coater-developer-infrared-heater/</link>
				<pubDate>Mon, 01 Jun 2026 17:44:35 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-now.com/vi/posts/coater-developer-infrared-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/e619a459508a95cd74ea4eae0be40cd1.png&#34; alt=&#34;Bộ phát triển lớp phủ máy sấy hồng ngoại&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Trên tầng &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;lithography&lt;/a&gt;, một sự lệch nhiệt 1°C trong quá trình soft bake sẽ làm dịch chuyển sai lệch kích thước quan trọng (critical dimension). Bạn sẽ nhận thấy điều này dưới dạng sự biến đổi độ rộng đường mạch trên wafer — và đó là cách bạn phải loại bỏ hàng giờ công việc quy trình.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Bộ gia nhiệt IR cho coater/developer là trung tâm nhiệt của quá trình xử lý photoresist: soft bake, hard bake và sấy khô. Nếu tính đồng đều nhiệt bị ảnh hưởng, tỷ lệ sản phẩm đạt chuẩn cũng sẽ giảm theo.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
