ОЭМ элемент нагрева на полупроводниках

Thu, 02 Jul 2026 03:03:45 +0800

На производственном участке достаточно изменения температуры на 1°C во время отжига фотополимера, чтобы линия профиля изменилась на несколько нанометров. Это приводит к большим потерям продукции. Необходимо поддерживать постоянную температуру, а не пытаться её изменять. Мы разработали специальные нагревательные элементы для использования в процессах обработки полупроводниковых пластин; они обеспечивают точный контроль температуры на уровне самой пластины, а не только на уровне заданного значения.

Что важно при использовании данного устройства
Устройство использует галогеновые излучатели коротковолнового инфракрасного излучения в кварцевом корпусе. Благодаря этому скорость регулировки температуры высока, а контроль на постоянном уровне — очень точный. Важным параметром является однородность температуры на всей поверхности пластины: ±0,1°C. Устройство может работать в чистых комнатах класса 1–100 без образования частиц, что обеспечивается системой мониторинга внутри камеры. Повторяемость результатов остается в пределах ±0,2%, даже при круглосуточной работе. Тепловая характеристика устройства оптимизирована для использования в процессах мягкого и жесткого отжига фотополимера. Устройство может использоваться с пластинами размером 200/300 мм; имеет стандартные параметры напряжения и компактные размеры, что позволяет использовать его в оборудовании производителей.

OEM on Immediate Infrared Heating Solutions

ОЭМ элемент нагрева на полупроводниках