Полупроводник on Immediate Infrared Heating Solutions

Энергосберегающее полупроводниковое нагревание

Thu, 23 Jul 2026 09:29:59 +0800

Почему мы переходим на использование инфракрасного излучения для сушки полупроводниковых пластин
Индустрия стремится к использованию экологичных и безсвинцовых материалов. Это замечательно, но это создает значительное давление на способы сушки пластин. Долгое время мы использовали конвекционные печи. Проблема в том, что это своего рода огромные контейнеры, которые нагревают огромное количество воздуха лишь для того, чтобы передать энергию маленькой пластине. Это полная трата энергии.

Поэтому мы перешли на использование инфракрасного излучения. Вместо нагрева воздуха инфракрасное излучение использует электромагнитные волны для прямого воздействия на поверхность пластины. Это делает процесс более эффективным.

Золотисто покрытая инфракрасная лампа для полупроводников

Sun, 12 Jul 2026 05:34:30 +0800

Как обеспечить безопасность при использовании инфракрасных ламп рядом с взрывоопасными химикатами
При очистке полупроводников вы фактически работаете с огнем – буквально. Эти растворители легко воспламеняются, а в некоторых случаях даже являются взрывоопасными. Если использовать обычную инфракрасную лампу в таких условиях, это приведет к катастрофе.

Поэтому мы используем инфракрасные лампы с золотым покрытием. Они специально разработаны для работы в условиях высокого риска, что позволяет нагревать пластины без опасений о возможном взрыве.

Почему именно золото?
Это не связано с желанием придать устройству красивый вид. На кварцевую трубку наносится тонкий слой золота, который выполняет функцию зеркала. Он отражает инфракрасную энергию в сторону пластины, предотвращая её утечку наружу. Это позволяет быстрее достичь нужной температуры. Но есть и недостаток: из-за большой мощности лампы она сильно нагревается. Мы используем высокочистый кварц, чтобы лампа не сгорела сразу после включения.

ОЭМ элемент нагрева на полупроводниках

Thu, 02 Jul 2026 03:03:45 +0800

На производственном участке достаточно изменения температуры на 1°C во время отжига фотополимера, чтобы линия профиля изменилась на несколько нанометров. Это приводит к большим потерям продукции. Необходимо поддерживать постоянную температуру, а не пытаться её изменять. Мы разработали специальные нагревательные элементы для использования в процессах обработки полупроводниковых пластин; они обеспечивают точный контроль температуры на уровне самой пластины, а не только на уровне заданного значения.

Что важно при использовании данного устройства
Устройство использует галогеновые излучатели коротковолнового инфракрасного излучения в кварцевом корпусе. Благодаря этому скорость регулировки температуры высока, а контроль на постоянном уровне — очень точный. Важным параметром является однородность температуры на всей поверхности пластины: ±0,1°C. Устройство может работать в чистых комнатах класса 1–100 без образования частиц, что обеспечивается системой мониторинга внутри камеры. Повторяемость результатов остается в пределах ±0,2%, даже при круглосуточной работе. Тепловая характеристика устройства оптимизирована для использования в процессах мягкого и жесткого отжига фотополимера. Устройство может использоваться с пластинами размером 200/300 мм; имеет стандартные параметры напряжения и компактные размеры, что позволяет использовать его в оборудовании производителей.

Термопара для нагревателя на полупроводниках

Sun, 28 Jun 2026 01:21:41 +0800

На производственном полу допуск колебаний температуры на нагревательной плате во время обработки фотополимера в пределах 0,5°C может серьезно нарушить контроль толщины линий на пластине, что приводит к потере качества продукции. Необходимо использовать устройства для измерения температуры, которые отслеживают ее значение в соответствии с установленными параметрами, а не только температуру в самой точке нагрева.

Что имеет значение с технической точки зрения Мы производим термопары для полупроводниковых нагревателей, чтобы поддерживать температурную однородность на уровне ±0,1°C и обеспечивать стабильность показаний при работе с разными партиями продукции. Элементы сенсоров располагаются в тех местах, где пластина фактически подвергается воздействию температуры, а не там, где находятся точки максимального нагрева.

Будущее технологий обогрева на основе полупроводников

Sat, 06 Jun 2026 01:02:53 +0800

На производственном этаже тепловое смещение измеряется долями градуса. Колебание на 0,5°C во время сушки фоторезиста может сдвинуть критические размеры, а неплотная горячая зона допускает частицы, которые выводят из строя пластины. Цель — не достижение пиковых температур, а точное и повторяемое управление тепловой энергией.

Что важно с технической точки зрения
Мы создаём системы нагрева, которые обеспечивают однородность температуры на уровне ±0,1°C по всей зоне обработки пластины в течение всего технологического цикла. ИК-излучатели обеспечивают быстрый объёмный нагрев для мягкой и твёрдой сушки, а замкнутая система управления поддерживает стабильность установленного значения температуры даже при колебаниях сетевого напряжения и тепловой нагрузке. Аппаратура рассчитана на чистые помещения класса 1–100, с подтверждённым отсутствием генерации частиц при мониторинге in-situ.