Aquecedor de cocção para resist e beam

Tue, 09 Jun 2026 00:57:34 +0800

No piso de litografia, a secagem do resist e-beam não é um simples aquecimento. É o guardião do controle da largura de linha. Um desvio de 0,3°C pode resultar em uma parede lateral inclinada. Um ponto frio pode deixar filme residual, que será visível depois como descolamento no desenvolvimento. Nosso aquecedor para secagem de resist e-beam foi desenvolvido para operar nessa realidade — mantendo a temperatura onde o processo exige, e não onde o aquecedor decide estabilizar.

O que importa, tecnicamente.
Utilizamos elementos infravermelhos de onda curta por um caminho térmico baseado em quartzo, o que garante aquecimento rápido e limpo. Ao longo do wafer, a uniformidade se mantém dentro de ±0,1°C e a estabilidade do ponto de ajuste fica abaixo de ±0,05°C durante a fase estável da secagem. O sistema atinge a temperatura de secagem em segundos, reduzindo o tempo ocioso entre lotes sem ultrapassar o orçamento térmico do fotoresist.

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