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		<title>Fotorelevante on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
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				<title>Lâmpada de secagem de fotoresist</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/pt/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800</pubDate>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lâmpada de secagem de fotoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;No processo de litografia, os passos de secagem a calor suave e intenso não são simplesmente “etapas térmicas”. Na verdade, eles representam um limite entre a fidelidade do padrão criado e a necessidade de refazer o processo, o que certamente é algo que se quer evitar. O fotorelevo é muito sensível às variações térmicas – qualquer desvio de temperatura gera problemas graves. Um ou dois graus de diferença, ou um ponto quente na superfície do wafer, podem causar grandes problemas no controle da qualidade do produto.&lt;/p&gt;</description>
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