Lâmpada de secagem de fotoresist

Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800

No processo de litografia, os passos de secagem a calor suave e intenso não são simplesmente “etapas térmicas”. Na verdade, eles representam um limite entre a fidelidade do padrão criado e a necessidade de refazer o processo, o que certamente é algo que se quer evitar. O fotorelevo é muito sensível às variações térmicas – qualquer desvio de temperatura gera problemas graves. Um ou dois graus de diferença, ou um ponto quente na superfície do wafer, podem causar grandes problemas no controle da qualidade do produto.

Aquecedor de cocção para resist e beam

Tue, 09 Jun 2026 00:57:34 +0800

No piso de litografia, a secagem do resist e-beam não é um simples aquecimento. É o guardião do controle da largura de linha. Um desvio de 0,3°C pode resultar em uma parede lateral inclinada. Um ponto frio pode deixar filme residual, que será visível depois como descolamento no desenvolvimento. Nosso aquecedor para secagem de resist e-beam foi desenvolvido para operar nessa realidade — mantendo a temperatura onde o processo exige, e não onde o aquecedor decide estabilizar.

O que importa, tecnicamente.
Utilizamos elementos infravermelhos de onda curta por um caminho térmico baseado em quartzo, o que garante aquecimento rápido e limpo. Ao longo do wafer, a uniformidade se mantém dentro de ±0,1°C e a estabilidade do ponto de ajuste fica abaixo de ±0,05°C durante a fase estável da secagem. O sistema atinge a temperatura de secagem em segundos, reduzindo o tempo ocioso entre lotes sem ultrapassar o orçamento térmico do fotoresist.

Cozimento No Forno on Immediate Infrared Heating Solutions

Lâmpada de secagem de fotoresist

Aquecedor de cocção para resist e beam