Halogeenlamp voor RTP systeem

Sat, 20 Jun 2026 01:57:12 +0800

Op de productievloer kan een temperatuurschommeling van 0,2°C tijdens het verhitten van de wafer de gewenste nauwkeurigheid en kwaliteit van het eindproduct negatief beïnvloeden. In RTP-systemen is de lamp niet alleen een bron van warmte – ze is ook cruciaal voor de thermische uniformiteit en herhaalbaarheid.

Wij maken halogeenlampen voor RTP-systemen met zeer precieze spectraalkontrol en snelle respons. De geometrie van de filamenten, het kwartsomhulsel en de reflectoren zijn allemaal zo geselecteerd dat er een stabiele hete zone ontstaat, waarin de temperatuur op het niveau van de wafer rond de ±0,1°C blijft. De uitgangstemperatuur blijft constant, zelfs na duizenden cycli. Hierdoor verandert het cruciale thermische budget niet van lading tot lading. De constructie is geschikt voor gebruik in een schone ruimte; er worden materialen gebruikt die weinig gas afgeven en waarbij de concentratie van deeltjes minimaal is, zodat er geen contaminatie optreedt.

Systeem on Immediate Infrared Heating Solutions

Halogeenlamp voor RTP systeem