Sensor on Immediate Infrared Heating Solutions

Temperatuursensor voor wafer hulpmiddel

Thu, 23 Jul 2026 09:22:57 +0800

Waarom we hete lucht vervangen door infraroodstraling in chipverwerkingsapparaten

Als je de verwerking van halfgeleiders wilt versnellen, moet je kijken waar je tijd verliest. Voor velen van ons is dat het verwarmingsproces.

De meeste ouderwetse apparaten maken gebruik van hete lucht. Het is een langzaam proces: eerst wordt de lucht verhit, en pas daarna wordt de chip verhit. Het is net alsof je een kamer probeert op te warmen met een ruimtetemperatuurregelaar – het duurt eeuwen.

Verhitter voor de fabricage van waterstofsensoren

Sat, 18 Jul 2026 01:41:52 +0800

Waarom wachten op de oven? IR versus hete lucht voor waterstofsensoren
Als je waterstofsensoren maakt, weet je hoe het werkt. Er zijn katalysatorlagen die geactiveerd moeten worden en membranen die gestabiliseerd moeten worden. Het komt allemaal neer op de manier waarop je de warmte toepast.

Veel bedrijven maken nog steeds gebruik van grote ovens met hete luchtcirculatie. Eerlijk gezegd is dat een behoorlijke beperking. Hierdoor moet je eerst een grote ruimte vol lucht verwarmen, zodat deze de onderdelen kan verwarmen. Het proces is langzaam en tijdrovend. Het is net alsof je moet wachten tot het water kookt, terwijl je juist snel resultaat wilt zien.

MEMS sensorwaferdroogheater

Fri, 17 Jul 2026 01:54:58 +0800

Het drogen van MEMS-sensorwafern vereist zorgvuldig handelen. Je wilt dat het spoelvloeistof snel verdwijnt, maar als je niet voorzichtig bent, kunnen er watervlekken ontstaan – of erger nog: mechanische spanningen die de hele partij wafern beschadigen. Daarom gebruiken we infraroodverwarmingselementen die speciaal hiervoor zijn ontworpen. In plaats van alleen de lucht te verhitten, richten deze elementen zich rechtstreeks op het oppervlak van de wafer. Op deze manier wordt de vochtigheid zo snel mogelijk weggehaald, voordat de oppervlaktespanning de delicate MEMS-structuren kan beschadigen.

Precisiem IR sensor voor wafer

Thu, 09 Jul 2026 14:59:08 +0800

Precisielampen voor het verwerken van wafers
Stel je voor: je bent middenin het productieproces van wafers, de machines werken op volle toeren – en plotseling gaat er een lamp kapot. Dat betekent niet alleen een onderbreking in het proces, maar ook chaos. Er is gevaar dat vuil zich overal verspreidt, waardoor de hele productie stil komt te liggen.

Wij hebben onze precisielampen ontworpen om dit soort problemen te voorkomen. Onze prioriteit is om intensieve, betrouwbare warmte te leveren, terwijl de wafers zo schoon mogelijk blijven.

Slimme sensorenverpakking infrarood

Tue, 30 Jun 2026 01:30:31 +0800

Op de productielijn kunnen intelligente sensoren geen enkele thermische afwijking tolereren. Eén enkele onnauwkeurige verhitting kan al ertoe leiden dat de kwaliteit van de producten verminderd. We hebben een infraroodthermische platform ontwikkeld om deze variabiliteit uit te sluiten.

Wat belangrijk is onder het oppervlak We gebruiken NIR-emitters die zijn afgestemd op de absorptie van het fotoresistmiddel. Hierdoor wordt de warmte snel en contactloos overgedragen. In het gebied waar de wafers worden verhit, blijft de uniformiteit op een niveau van ±0,1°C. De herhaalbaarheid wordt gewaarborgd door gebruik te maken van een sluitingslooppyrometrie rechtstreeks op het substraatoppervlak. Het verwarmingsapparaat is gemaakt van kwarts en hoge-kwaliteitsceramiek, zodat er geen deeltjes worden gegenereerd tijdens het proces. Het apparaat kan worden gebruikt in schoonruimten van klasse 1–100, zonder dat de concentratie aan deeltjes toeneemt. Het thermische profiel blijft consistent van lote tot lote. De stroomdichtheid wordt zo geregeld dat de thermische behoeften van de dunne films worden voldaan. De reactietijd blijft kort, zodat er geen tijdverlies is door langdurig wachten op het bereiken van de optimale temperatuur.