Coater ontwikkelaar infraroodverwarmer

Mon, 01 Jun 2026 17:44:35 +0800

Op de lithografievloer zorgt een drift van 1°C in de soft bake voor een verschuiving in de kritische dimensiebias. Dit uit zich als lijnbreedtevariatie over de wafer, wat resulteert in het weggooien van uren proceswerk.
De coater/developer IR-verwarmer is het thermische hart van het fotolakproces: soft bake, hard bake en droging. Als de thermische uniformiteit afwijkt, volgt de opbrengst.

Wat technisch van belang is

We bouwen deze infraroodverwarmers rondom kortgolvige bronnen die snel reageren, waarbij ze door de dikte verwarmen zodat de temperatuur binnen enkele seconden stabiliseert, niet binnen enkele minuten. Over het bake-oppervlak blijft de uniformiteit op wafer-niveau binnen ±0,1°C, wat lokale CD- en dikteafwijkingen beperkt.
De behuizing is cleanroom-compatibel van klasse 1 tot klasse 100. Materialen met lage uitgassing en een deeltjesgecontroleerd pad houden contaminatie buiten de proceskamer. Nul deeltjesgeneratie is geen marketingterm, maar een ontwerpeis die wordt afgedwongen door oppervlakteafwerking, afdichting en luchtstroomrouting.

Ontwikkelaar on Immediate Infrared Heating Solutions

Coater ontwikkelaar infraroodverwarmer

Wat technisch van belang is