Tenaga on Immediate Infrared Heating Solutions

Pemanasan berasaskan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Thu, 23 Jul 2026 09:29:59 +0800

Mengapa Kita Beralih ke Penggunaan Sinar Infra Merah untuk Proses Pengeringan Semikonduktor
Industri ini sedang berusaha keras untuk mencapai standard “hijau” tanpa penggunaan plumbum. Ini memang bagus, tetapi ia menimbulkan tekanan yang besar terhadap cara kita mengeringkan wafer tersebut. Selama ini, kita bergantung pada ketuhar konveksi untuk tujuan ini. Masalahnya ialah ketuhar tersebut sebenarnya hanyalah kotak besar yang digunakan untuk memanaskan udara dalam kuantiti yang banyak, hanya untuk memberikan tenaga kepada wafer yang bersaiz kecil. Ini merupakan pembaziran tenaga yang sangat besar.

Penilaian tenaga untuk proses pengeringan di kilang

Tue, 21 Jul 2026 01:45:43 +0800

Hentikan masalah yang timbul akibat kerosakan lampu inframerah: Lindungi wafer anda daripada kerosakan akibat lampu inframerah yang rosak.

Sejujurnya, kerosakan lampu inframerah semasa proses pengeluaran merupakan situasi yang sangat buruk. Ia bukan sahaja melibatkan kos pembaikan lampu yang rosak, tetapi juga kebimbangan bahawa serpihan kaca boleh tersebar ke seluruh wafer yang sedang diproses.

Apabila kita menghasilkan produk dalam kuantiti yang banyak, lapisan kuarsa tersebut akan terdedah kepada haba yang tinggi. Kami mencipta lampu inframerah yang mampu menahan tekanan haba tersebut, agar tidak perlu risau setiap masa.

Pemanas wafer yang cekap dari segi penggunaan tenaga

Sat, 11 Jul 2026 05:00:04 +0800

Mengawal Suhu Dengan Betul dalam Smart Fab

Jika anda merancang untuk membina Smart Fab untuk Industri 4.0, anda pasti sudah sedar bahawa cara lama untuk mengawal suhu sudah tidak lagi sesuai. Pemanas jenis resistif biasa sangat lambat berfungsi; ia memerlukan masa yang lama untuk panas, dan lebih lama lagi untuk sejuk.

Itulah sebabnya kita menggunakan sistem inframerah (IR). Sistem ini dapat menghantar haba tepat ke tempat yang diperlukan, pada masa yang diperlukan. Ini merupakan satu-satunya cara untuk mencapai kadar pemanasan yang cepat yang diperlukan oleh proses pemprosesan wafer moden.