Sensor on Immediate Infrared Heating Solutions

Penderia suhu untuk alat pemprosesan wafer

Thu, 23 Jul 2026 09:22:57 +0800

Mengapa kita menggantikan penggunaan udara panas dengan sinar inframerah dalam alat pemprosesan wafer
Jika anda ingin mempercepatkan proses pemprosesan semikonduktor, anda perlu mencari titik di mana masa terbuang. Bagi kebanyakan orang, masalahnya terletak pada proses pemanasan itu sendiri.

Kebanyakan sistem lama menggunakan udara panas untuk memanaskan wafer. Proses ini sangat lambat – udara perlu dipanaskan terlebih dahulu, barulah udara tersebut dapat memanaskan wafer. Ia sama seperti cuba memanaskan sebuah bilik menggunakan pemanas ruangan; prosesnya memerlukan masa yang lama.

Pemanas untuk pembuatan sensor hidrogen

Sat, 18 Jul 2026 01:41:52 +0800

Mengapa perlu menunggu lagi? IR berbanding udara panas untuk pengesan hidrogen
Jika anda membuat pengesan hidrogen, anda pasti tahu betapa rumitnya prosesnya. Anda perlu menggunakan lapisan katalis untuk mengaktifkan sensor tersebut, serta membran untuk menstabilkannya. Semuanya bergantung pada cara anda mengawal suhu.

Banyak syarikat masih menggunakan ketuhar yang menggunakan udara panas untuk memanaskan bahan tersebut. Sejujurnya, ini merupakan halangan besar. Dengan menggunakan udara panas, anda sebenarnya sedang memanaskan ruangan besar hanya untuk memanaskan bahan tersebut. Proses ini sangat lambat dan merepotkan. Ia sama seperti menunggu air mendidih, padahal anda hanya ingin memanaskan bahan tersebut dengan cepat.

Pemanas untuk mengeringkan wafer sensor MEMS

Fri, 17 Jul 2026 01:54:58 +0800

Mengeringkan Wafer MEMS Tanpa Masalah
Mengeringkan wafer sensor MEMS merupakan proses yang memerlukan kehati-hatian yang tinggi. Cecair pembersih perlu dihilangkan dengan cepat, tetapi jika tidak berhati-hati, ia boleh menyebabkan kewujudan bintik-bintik air pada permukaan wafer, atau lebih teruk lagi, tekanan mekanikal yang boleh merosakkan keseluruhan wafer tersebut.

Itulah sebabnya kami menggunakan pemanas inframerah yang direka khusus untuk tujuan ini. Pemanas ini bertujuan untuk memanaskan permukaan wafer secara langsung, sekaligus menghilangkan kelembapan sebelum tegangan permukaan sempat menyatukan struktur halus pada wafer tersebut.

Penderia IR yang tepat untuk wafer

Thu, 09 Jul 2026 14:59:08 +0800

Lampu Inframerah Berketepatan Tinggi untuk Proses Penghasilan Wafer
Bayangkanlah: Anda sedang sibuk dalam proses penghasilan wafer, mesin beroperasi dengan lancar… tiba-tiba, lampu tersebut rosak. Ini bukan sekadar gangguan sementara; ia akan menyebabkan masalah besar. Ia boleh menyebabkan pencemaran di mana-mana, sehingga memaksa operasi kilang terhenti sepenuhnya.

Kami mencipta lampu inframerah berketepatan tinggi ini untuk mengelakkan situasi buruk seperti ini daripada berlaku. Fokus utama kami adalah untuk memberikan haba yang kuat dan dapat dikawal dengan baik, sambil memastikan wafer tetap bersih sepenuhnya.

Pembungkusan sensor pintar untuk pengesanan sinar inframerah

Tue, 30 Jun 2026 01:30:31 +0800

Di bilik pengeluaran cip pintar ini, barisan pakej sensor pintar tidak boleh bertoleransi terhadap perubahan suhu yang berlaku semasa proses pembakaran. Jika proses pembakaran berlangsung di luar spesifikasi yang ditetapkan, atau jika terdapat kawasan yang terlalu panas, maka kualiti hasil pengeluaran akan menurun sebelum proses litografi selesai. Kami telah membina platform termal inframerah untuk mengatasi masalah ini.

Apa yang penting dalam proses ini
Kami menggunakan pemancar NIR yang disesuaikan agar haba dapat sampai ke permukaan wafer dengan cepat dan tanpa kontak fizikal. Di kawasan pembakaran, keseragaman suhu pada peringkat wafer adalah sekitar ±0.1°C. Repeatabiliti pula dipastikan melalui penggunaan alat pengukur suhu yang canggih. Badan pemanas diperbuat daripada kuarsa dan seramik berkualiti tinggi, jadi tiada zarah yang dihasilkan semasa proses pembakaran. Platform ini boleh beroperasi dalam bilik bersih kelas 1–100 tanpa meningkatkan jumlah zarah yang ada. Profil suhu juga kekal konsisten dari satu kumpulan produk ke kumpulan produk yang lain. Ketumpatan tenaga juga dikawal supaya sesuai dengan keperluan proses pembakaran lapisan nipis. Masa tindak balas pula memastikan proses berjalan lancar, tanpa perlu menunggu masa yang lama untuk suhu mencapai tahap yang diinginkan.