Semikonduktor on Immediate Infrared Heating Solutions

Pemanasan berasaskan semikonduktor yang menjimatkan tenaga

Thu, 23 Jul 2026 09:29:59 +0800

Mengapa Kita Beralih ke Penggunaan Sinar Infra Merah untuk Proses Pengeringan Semikonduktor
Industri ini sedang berusaha keras untuk mencapai standard “hijau” tanpa penggunaan plumbum. Ini memang bagus, tetapi ia menimbulkan tekanan yang besar terhadap cara kita mengeringkan wafer tersebut. Selama ini, kita bergantung pada ketuhar konveksi untuk tujuan ini. Masalahnya ialah ketuhar tersebut sebenarnya hanyalah kotak besar yang digunakan untuk memanaskan udara dalam kuantiti yang banyak, hanya untuk memberikan tenaga kepada wafer yang bersaiz kecil. Ini merupakan pembaziran tenaga yang sangat besar.

Lampu inframerah yang dilapisi emas untuk kegunaan dalam semikonduktor

Sun, 12 Jul 2026 05:34:33 +0800

Mengelakkan Bahaya Apabila Lampu IR Bersentuhan dengan Bahan Kimia yang Mudah Meletup
Ketika kita membersihkan komponen semikonduktor, sebenarnya kita sedang bermain dengan api—secara literalnya. Bahan pelarut tersebut mudah terbakar, dan dalam beberapa kes, ia boleh meletup. Jika kita gunakan lampu IR biasa di situ, ia akan menyebabkan bencana.

Itulah sebabnya kita menggunakan lampu IR berlapis emas. Lampu ini direka khas untuk situasi berisiko tinggi ini, agar kita dapat memanaskan wafer tanpa perlu risau tentang kemungkinan letupan.

Termokopel untuk pemanas berasaskan semikonduktor

Sun, 28 Jun 2026 01:21:41 +0800

Di fasiliti pembuatan cip, perubahan suhu sebanyak 0.5°C pada permukaan panas semasa proses pembakaran bahan fotoresist boleh merosakkan kawalan ketebalan garisan pada cip tersebut, sehingga menyebabkan cip tersebut tidak boleh digunakan. Oleh itu, diperlukan pengukuran suhu yang tepat, iaitu berdasarkan nilai tetapan yang ditetapkan, bukannya berdasarkan titik paling panas pada pemanas tersebut.

Apa yang penting dari segi teknikalnya:
Kami membuat termokopel khusus untuk pemanas semikonduktor, agar suhu di permukaan wafer dapat dikawal dalam lingkungan ±0.1°C. Selain itu, sistem ini juga memastikan kebolehulangan hasil pengeluaran yang konsisten. Titik pengesan suhu terletak di tempat yang sebenarnya bersentuhan dengan wafer, bukan di tempat pemanas mencapai suhu tertinggi.