http://ir-heater-now.com/ms/tags/reflektor/ Recent content in Reflektor on Immediate Infrared Heating Solutions Hugo ms Fri, 24 Jul 2026 09:08:46 +0800 http://ir-heater-now.com/ms/posts/optimizing-ir-heat-directionality-with-aluminum-reflectors-to-protect-semiconductor-equipment/ Fri, 24 Jul 2026 09:08:46 +0800 http://ir-heater-now.com/ms/posts/optimizing-ir-heat-directionality-with-aluminum-reflectors-to-protect-semiconductor-equipment/ <p><img src="http://ir-heater-now.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png" alt="Reflektor aluminium untuk lampu IR"></p> <p><strong>Hentikan pembaziran haba: Mengapa alat semikonduktor memerlukan reflektor aluminium</strong><br> Masalah dengan lampu IR ialah ia mengeluarkan haba ke semua arah – 360 darjah. Namun, dalam alat semikonduktor, yang penting hanyalah haba yang sampai ke wafer tersebut. Tanpa reflektor, separuh daripada tenaga tersebut akan terbuang sia-sia. Haba tersebut tidak hilang begitu saja; ia akan meresap ke dalam badan mesin. Akibatnya, dinding dalaman mesin akan menjadi sangat panas sehingga boleh membahayakan pengendalinya. Selain itu, struktur mesin yang sensitif juga akan rosak. Ini bukanlah situasi yang baik.</p> http://ir-heater-now.com/ms/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ Mon, 20 Jul 2026 09:24:58 +0800 http://ir-heater-now.com/ms/posts/reflector-for-wafer-curing-lamp/ <p><img src="http://ir-heater-now.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Reflektor untuk lampu pengeringan wafer"></p> <p><strong>Mendapatkan suhu yang sesuai di kilang pengeluaran</strong><br> Jika anda pernah berurusan dengan proses pengeringan wafer, pasti anda tahu betapa menyusahkannya masalah pembengkokan substrat tersebut. Ini biasanya berlaku kerana profil haba yang digunakan tidak tepat. Dalam kilang pengeluaran moden yang menggunakan pendekatan berasaskan data, kita tidak boleh sekadar meningkatkan suhu dan berharap segalanya akan berjalan lancar.</p> <p>Rahsianya terletak pada reflektor. Alat kecil ini menentukan sama ada tenaga haba tersebut benar-benar sampai ke permukaan wafer atau sebaliknya, sehingga tenaga tersebut disia-siakan dan hanya memanaskan badan mesin tanpa tujuan.</p>