<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Nanotube on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
		<link>http://ir-heater-now.com/ms/tags/nanotube/</link>
		<description>Recent content in Nanotube on Immediate Infrared Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ms</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Fri, 26 Jun 2026 01:20:19 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-now.com/ms/tags/nanotube/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Pemanas untuk pembuatan nanotorus karbon</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/ms/posts/carbon-nanotube-fabrication-heater/</link>
				<pubDate>Fri, 26 Jun 2026 01:20:19 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-now.com/ms/posts/carbon-nanotube-fabrication-heater/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;Pemanas untuk pembuatan nanotorus karbon&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di ruang pengeluaran, langkah-langkah pembakaran inilah yang menentukan parameter suhu yang diperlukan untuk mengawal ketebalan garisan pada permukaan wafer. Sebarang perubahan suhu sebanyak 2°C semasa proses pembakaran akan menyebabkan perubahan pada nilai CD, dan ini seterusnya akan menyebabkan masalah pada permukaan wafer. Kami telah mencipta pemanas berbasis karbon nanotube untuk mengurangkan variasi suhu tersebut.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Apa yang penting dari segi teknikalnya:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Pada tahap wafer, kestabilan suhu adalah sekitar ±0.1°C, dengan ulangan nilai suhu yang tepat sekitar ±0.2°C. Element karbon nanotube ini bertindak balas dengan cepat dan kekal stabil. Reka bentuk tanpa menggunakan &lt;a href=&#34;https://o-yate.net&#34;&gt;kuarsa&lt;/a&gt; pula membantu mengurangkan penghasilan zarah-zarah yang tidak diinginkan. Pemanas ini boleh digunakan dalam bilik bersih kelas 1–100, tanpa sebarang pelepasan gas ke dalam bilik proses, dan juga tanpa adanya titik panas yang boleh &lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;merosakkan&lt;/a&gt; permukaan wafer. Kawalan suhu yang efektif memastikan suhu sesuai dengan sifat kimia bahan yang digunakan, bukannya bergantung pada kelajuan pemanasan.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
