http://ir-heater-now.com/ms/tags/membakar/ Recent content in Membakar on Immediate Infrared Heating Solutions Hugo ms Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800 http://ir-heater-now.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/ Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800 http://ir-heater-now.com/ms/posts/photoresist-baking-lamp/ <p><img src="http://ir-heater-now.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png" alt="Lampu untuk membakar bahan photoresist"></p> <p>Di bilik proses litografi ini, proses “soft bake” dan “hard bake” bukan sekadar <a href="https://o-yate.net">langkah</a> termal biasa. Ia merupakan garis pemisah antara kualiti corak yang dihasilkan dengan keperluan untuk melakukan pengeluaran semula yang sebenarnya tidak diinginkan. Bahan photorest sangat sensitif terhadap perubahan suhu; sedikit perubahan suhu pun boleh merosakkan hasil proses tersebut.</p> <p><strong>Apa yang penting dari segi teknikal</strong><br> Kita menggunakan lampu halogen berfrekuensi rendah yang diletakkan dalam selongsong kuarsa. Suhu yang dihasilkan adalah tinggi tetapi kering, dan tidak menghasilkan zarah-zarah berbahaya. Spesifikasi yang penting ialah keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, iaitu ±0.1°C. Kepastian proses juga perlu dipertahankan agar setiap proses pengeringan menghasilkan hasil yang sama seperti sebelumnya.</p> http://ir-heater-now.com/ms/posts/e-beam-resist-baking-heater/ Tue, 09 Jun 2026 00:57:34 +0800 http://ir-heater-now.com/ms/posts/e-beam-resist-baking-heater/ <p><img src="http://ir-heater-now.com/images/594cd14ba0fdce93f512a6ddf4ebf45d.png" alt="Pemanas pembakar resist E beam"></p> <h1 id="role">Role</h1> <p>Anda adalah penterjemah pakar penyesuaian bahasa tempatan untuk bahasa Melayu, dengan latar belakang <a href="https://goldisgood.com">profesional</a> yang kukuh dalam bidang pembuatan industri dan kejuruteraan elektromechanical.</p> <h1 id="tugas">Tugas</h1> <p>Terjemahkan artikel teknikal industri yang disediakan ke dalam bahasa Melayu dengan tahap ketepatan profesional tertinggi.</p> <h1 id="input-text">Input Text</h1> <p>Di lantai litografi, pemanasan resist e-beam bukan sekadar pemanasan awal. Ia adalah pengawal utama untuk kawalan lebar garis. Pergerakan suhu sebanyak 0.3°C boleh menghasilkan dinding sebelah yang condong. Titik sejuk boleh meninggalkan lapisan filem, dan anda akan melihatnya kemudian sebagai pengelupasan perkembangan (develop lift). Kami membina pemanas pembakar resist e-beam kami untuk berada dalam realiti tersebut—memegang suhu di tempat proses memerlukannya, bukan di tempat pemanas memutuskan untuk stabil.</p>