Lampu pemanas inframerah dengan masa tindak balas yang cepat

Fri, 19 Jun 2026 02:09:03 +0800

Di dalam bilik pengeluaran, perubahan suhu semasa proses pembakaran lembut atau pengeringan wafer bukan sekadar masalah kecil. Perubahan suhu ini akan mengubah dimensi penting wafer, dan meninggalkan sisa-sisa yang boleh menyebabkan penurunan kualiti wafer. Kami telah mencipta pemanas inframerah yang berkuasa tinggi untuk mengatasi masalah ini dari awal.

Apa yang penting dari segi teknikal:
Kami menggunakan unsur halogen inframerah berfrekuensi rendah yang diletakkan dalam selubung kuarza. Ini membolehkan penghasilan tenaga radiasi yang tinggi dengan masa tindak balas yang sangat cepat. Suhu di kawasan aktif wafer dapat dikawal pada tahap ±0.1°C, manakala ketepatan tetapan suhu pula kekal pada tahap ±0.5°C selepas proses pemanasan. Keluaran pemanas tetap stabil daripada permulaan hingga ke keadaan stabil—tiada perubahan suhu yang boleh mengganggu aliran bahan fotorezist. Pemanas ini direka khas untuk digunakan di bilik bersih kelas 1–100, dengan reka bentuk yang memastikan penggunaan bahan yang bebas daripada zarah-zarah yang boleh merosakkan wafer. Pemanas ini boleh beroperasi selama lebih dari 5,000 jam tanpa penurunan keluaran yang signifikan, walaupun digunakan 24/7.

Jawapan on Immediate Infrared Heating Solutions

Lampu pemanas inframerah dengan masa tindak balas yang cepat