Pada talian burn-in, kestabilan suhu bukanlah keutamaan—ia adalah kekangan tegas. Perubahan beberapa darjah akan merosakkan hasil parametrik, dan ketidaksamaan pembakaran photoresist akan memakan bajet litografi yang ketat serta menukar wafer yang baik menjadi sisa. Kami mereka lampu pemanasan burn-in wafer kami untuk memastikan medan terma itu tepat, dari satu syif ke syif berikutnya.
Asasnya mudah. Elemen halogen gelombang pendek di dalam sarung kuarza memberikan haba radiasi terus dengan kawalan spektrum yang ketat, menyerasikan profil penyerapan silikon dan susunan photoresist yang digunakan. Sensor NIR terintegrasi menutup gelung secara masa nyata, mengekalkan keseragaman tahap wafer pada ±0.1°C di seluruh zon aktif.
Badan lampu dibina untuk bilik bersih Kelas 1–100—bahan yang rendah pelepasan gas dan pelindung aliran udara laminar yang memastikan penghasilan zarah sifar semasa keadaan mantap. Kebolehulangan output adalah lebih baik daripada 0.2% dari kitaran ke kitaran, supaya profil soft bake dan hard bake kekal konsisten merentas lot dan peralatan.
Ini sebabnya lampu ini sesuai untuk burn-in dan ujian tahap wafer. Anda mendapat kadar kenaikan suhu yang lebih pantas tanpa lebihan, suhu perendaman yang stabil walaupun di bawah beban kepadatan tinggi, serta profil terma yang boleh dialihkan antara mesin tanpa penyetelan semula. Penggunaan tenaga berkurang kerana haba disalurkan secara langsung, dan masa henti tidak dirancang berkurang kerana sistem dibina untuk tugas 24/7.
Modul boleh diganti bermaksud anda meminimumkan masa alat tidak aktif apabila servis diperlukan.
Pemasangan adalah khusus mengikut peralatan: rancang penjajaran optik yang tepat, pemasangan yang sesuai untuk bilik bersih, dan penangkapan ekzos yang mengawal beban haba setempat. Lampu berfungsi dengan optimum apabila jarak sasaran dan emisiviti kekal stabil. Jika anda menukar susunan wafer atau fixture, anda perlu melakukan kalibrasi cepat pada peta setpoint untuk memastikan keseragaman dalam spesifikasi.