<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>温度 on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
		<link>http://ir-heater-now.com/ja/tags/%E6%B8%A9%E5%BA%A6/</link>
		<description>Recent content in 温度 on Immediate Infrared Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>ja</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 23 Jul 2026 09:22:57 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-now.com/ja/tags/%E6%B8%A9%E5%BA%A6/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>ウェーハ処理装置用温度センサー</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/ja/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/</link>
				<pubDate>Thu, 23 Jul 2026 09:22:57 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-now.com/ja/posts/temperature-sensor-for-wafer-tool/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/a071a4619f1d04d8f3e2839bd3740f1c.png&#34; alt=&#34;ウェーハ処理装置用温度センサー&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;なぜウェーハ処理において熱風の代わりに赤外線を使うのか&lt;br&gt;&#xA;半導体の高度な加工を速めたい場合、どこで時間が無駄になっているかを見極める必要があります。多くの場合、そのボトルネックは加熱プロセスです。&lt;br&gt;&#xA;従来の装置では熱風を利用していますが、これは遅いプロセスです。まず空気を加熱し、その後でその空気がウェーハを温めます。まるでエアヒーターで部屋を温めるようなもので、時間がかかります。&lt;br&gt;&#xA;一方、赤外線加熱では中間段階が不要です。電磁波を&lt;a href=&#34;https://henruite.com&#34;&gt;直接&lt;/a&gt;ウェーハ表面に当てるので、非常に迅速です。これにより、ワークフロー全体が変わります。&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
