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		<title>技術 on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
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				<title>半導体加熱技術の未来</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/ja/posts/future-of-semiconductor-heating-tech/</link>
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				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/c4487c91a5d0bd93963bf8b3a19ba704.png&#34; alt=&#34;半導体加熱技術の未来&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;製造現場では、熱ドリフトは0.1度未満の単位で測定される。フォトレジストのベイク中に0.5℃の変動があれば、クリティカル寸法に影響を及ぼし、熱ゾーンの制御が緩いとウエハを損傷する粒子が侵入する。目標は最高温度を追うことではなく、熱エネルギーを高精度かつ再現性をもって制御することである。&lt;/p&gt;</description>
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