Sensor di temperatura per strumento a wafer

Thu, 23 Jul 2026 09:22:57 +0800

Perché sostituiamo l’aria calda con le radiazioni infrarosse nei dispositivi per il trattamento dei wafer
Se si vuole accelerare i processi di elaborazione dei semiconduttori, è necessario identificare dove si perde tempo. Per molti di noi, quel “punto di blocco” è proprio il processo di riscaldamento.
La maggior parte dei sistemi tradizionali utilizza aria calda per riscaldare i wafer. Si tratta di un processo lento: bisogna prima riscaldare l’aria, e solo successivamente questa può riscaldare il wafer stesso. È come cercare di riscaldare una stanza utilizzando un termoforo: ci vuole davvero tanto tempo.
Il riscaldamento a raggi infrarossi elimina questo problema: utilizza radiazioni elettromagnetiche per riscaldare direttamente la superficie del wafer. È molto più veloce. E questo cambia completamente il modo in cui si svolgono i processi di lavorazione.

```Python on Immediate Infrared Heating Solutions

Sensor di temperatura per strumento a wafer