Emissore infrarosso a ioduri di quarzo

Fri, 03 Jul 2026 03:01:41 +0800

Nel processo di litografia, anche un disallineamento di mezzo grado nel profilo di cottura del fotorest è sufficiente per far perdere il controllo delle dimensioni critiche del prodotto finito. La rimozione dei solventi dal fotorest diventa irregolare, e poi la fase di cottura “hard bake” fissa tale errore. L’uniformità termica su tutta la superficie del wafer non è semplicemente un vantaggio: è fondamentale per il corretto svolgimento del processo.

Quello che conta, dal punto di vista tecnico
I generatori a infrarossi a base di quarzo permettono di distribuire il calore proprio dove è necessario, in modo rapido e con un controllo spettrale preciso. La loro emissione a onde corte è ottimizzata per favorire l’assorbimento del calore da parte del fotorest, quindi i cicli di cottura sono rapidi e ripetibili. Riusciamo a mantenere un’uniformità termica di ±0,1°C su tutta la superficie del wafer, grazie a un sistema di controllo a circuito chiuso; il tempo di risposta è misurato in millisecondi.

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Emissore infrarosso a ioduri di quarzo