Emissore infrarosso a ioduri di quarzo

Fri, 03 Jul 2026 03:01:41 +0800

Nel processo di litografia, anche un disallineamento di mezzo grado nel profilo di cottura del fotorest è sufficiente per far perdere il controllo delle dimensioni critiche del prodotto finito. La rimozione dei solventi dal fotorest diventa irregolare, e poi la fase di cottura “hard bake” fissa tale errore. L’uniformità termica su tutta la superficie del wafer non è semplicemente un vantaggio: è fondamentale per il corretto svolgimento del processo.

Quello che conta, dal punto di vista tecnico
I generatori a infrarossi a base di quarzo permettono di distribuire il calore proprio dove è necessario, in modo rapido e con un controllo spettrale preciso. La loro emissione a onde corte è ottimizzata per favorire l’assorbimento del calore da parte del fotorest, quindi i cicli di cottura sono rapidi e ripetibili. Riusciamo a mantenere un’uniformità termica di ±0,1°C su tutta la superficie del wafer, grazie a un sistema di controllo a circuito chiuso; il tempo di risposta è misurato in millisecondi.

Lampada a halogeni per sistema RTP

Sat, 20 Jun 2026 01:57:12 +0800

Nelle linee di produzione, una variazione di temperatura di 0,2°C durante la fase di essiccazione del fotoresist può influire negativamente sulla qualità dei prodotti ottenuti. Nei sistemi RTP, la lampada non è soltanto una sorgente di calore: rappresenta inoltre l’elemento chiave per garantire uniformità termica e ripetibilità nei processi di produzione.

Noi produciamo lampade ad azoto per i sistemi RTP, caratterizzate da un preciso controllo dello spettro luminoso e da una rapida risposta. La geometria del filamento, l’involucro in quarzo e il riflettore sono tutti progettati per creare una zona di riscaldamento stabile, in modo che l’uniformità termica rimanga entro i valori di ±0,1°C. La temperatura di uscita della lampada rimane costante anche dopo migliaia di cicli di funzionamento, quindi il budget termico richiesto per i processi di litografia non cambia da lote a lote. L’assemblaggio delle lampade avviene in ambienti puliti, utilizzando materiali con basso livello di emissione di gas e componenti progettati per ridurre al minimo la presenza di particelle, elementi che potrebbero compromettere i processi di litografia.

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Emissore infrarosso a ioduri di quarzo

Lampada a halogeni per sistema RTP