Lampu pemanas untuk photoresist

Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800

Di proses litografi, proses pemanasan yang dilakukan bukan sekadar “langkah termal” biasa. Proses ini merupakan batas antara kualitas pola yang dihasilkan dan kebutuhan untuk melakukan perbaikan yang sebenarnya tidak diinginkan. Photoresist sangat sensitif terhadap perubahan suhu; setiap perubahan suhu sekecil satu atau dua derajat saja dapat merusak kualitas pola yang dihasilkan.

Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan lampu halogen berfrekuensi rendah yang berada dalam selubung kuarsa. Panas yang dihasilkan cepat dan kering, dengan tingkat partikel yang rendah. Pengukuran yang penting adalah keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, yaitu ±0,1°C. Tingkat repetibilitasnya juga harus tetap konstan, sehingga setiap proses pemanasan menghasilkan hasil yang sama seperti sebelumnya.

Pemanas pemanggangan resist E beam

Tue, 09 Jun 2026 00:57:34 +0800

Di lantai litografi, pemanggangan e-beam resist bukan sekadar pemanasan. Ini adalah penjaga utama untuk kontrol linewidth. Pergeseran suhu sebesar 0,3°C bisa menghasilkan sisi dinding yang miring. Titik dingin dapat meninggalkan film di belakang, dan hal itu akan terlihat kemudian sebagai develop lift. Kami merancang pemanas pemanggangan e-beam resist kami untuk beroperasi dalam kondisi tersebut—menjaga suhu di tempat proses membutuhkannya, bukan di tempat pemanas memutuskan untuk menetap.

Yang penting secara teknis.
Kami menggunakan elemen infrared gelombang pendek yang melewati jalur termal berbasis kuarsa, sehingga panas tersalurkan dengan cepat dan bersih. Keseragaman suhu di seluruh wafer tetap dalam batas ±0,1°C, dan stabilitas setpoint berada di bawah ±0,05°C setelah mencapai kondisi panggangan stabil. Sistem ini mencapai suhu panggangan dalam hitungan detik, sehingga Anda dapat memangkas waktu menganggur antar lot tanpa melewati batas termal photoresist.

Memanggang on Immediate Infrared Heating Solutions

Lampu pemanas untuk photoresist

Pemanas pemanggangan resist E beam