Pemancar inframerah berbasis kuarsa halogen

Fri, 03 Jul 2026 03:01:41 +0800

Di proses litografi, pergeseran sebesar setengah derajat pada profil pengeringan Soft Bake saja sudah cukup untuk mengacaukan kontrol dimensi kritis bahan yang digunakan. Proses penghilangan pelarut dalam fotoresistor pun menjadi tidak konsisten, dan akibatnya kesalahan tersebut tetap bertahan setelah proses Hard Bake. Keanekaragaman suhu di seluruh permukaan wafer bukanlah hal yang positif—itu justru merupakan masalah dalam proses produksi.

Yang penting secara teknis:
Emitor inframerah berbasis kuarsa mampu menghasilkan panas di tempat yang diperlukan, dengan cepat, dan dengan kontrol spektral yang baik. Gelombang pendek yang dihasilkan oleh emitter ini efektif untuk menyerap cahaya pada fotoresistor, sehingga proses pengeringan berjalan lebih cepat dan dapat diulang berkali-kali. Kita dapat mempertahankan kestabilan suhu sebesar ±0,1°C di seluruh permukaan wafer, berkat sistem kontrol berbentuk loop tertutup. Waktu responsnya pun hanya beberapa milidetik saja.

Kwarsa on Immediate Infrared Heating Solutions

Pemancar inframerah berbasis kuarsa halogen