Halogen on Immediate Infrared Heating Solutions

Pemancar inframerah berbasis kuarsa halogen

Fri, 03 Jul 2026 03:01:41 +0800

Di proses litografi, pergeseran sebesar setengah derajat pada profil pengeringan Soft Bake saja sudah cukup untuk mengacaukan kontrol dimensi kritis bahan yang digunakan. Proses penghilangan pelarut dalam fotoresistor pun menjadi tidak konsisten, dan akibatnya kesalahan tersebut tetap bertahan setelah proses Hard Bake. Keanekaragaman suhu di seluruh permukaan wafer bukanlah hal yang positif—itu justru merupakan masalah dalam proses produksi.

Yang penting secara teknis:
Emitor inframerah berbasis kuarsa mampu menghasilkan panas di tempat yang diperlukan, dengan cepat, dan dengan kontrol spektral yang baik. Gelombang pendek yang dihasilkan oleh emitter ini efektif untuk menyerap cahaya pada fotoresistor, sehingga proses pengeringan berjalan lebih cepat dan dapat diulang berkali-kali. Kita dapat mempertahankan kestabilan suhu sebesar ±0,1°C di seluruh permukaan wafer, berkat sistem kontrol berbentuk loop tertutup. Waktu responsnya pun hanya beberapa milidetik saja.

Lampu halogen untuk sistem RTP

Sat, 20 Jun 2026 01:57:12 +0800

Di area produksi, perubahan suhu sebesar 0,2°C pada wafer selama proses pemanasan fotoresist dapat merusak kualitas hasil produksi. Dalam sistem RTP, lampu tersebut bukan hanya sumber panas belaka, tetapi juga penentu utama tingkat keseragaman dan keandalan proses termal.

Kami memproduksi lampu halogen untuk sistem RTP yang memiliki kontrol spektral yang ketat serta respons yang cepat. Bentuk filamen, lapisan kuarsa, dan jalur reflektor semuanya dirancang sedemikian rupa agar menciptakan zona panas yang stabil, sehingga tingkat keseragaman suhu pada wafer tetap berada dalam rentang ±0,1°C. Output panas tetap stabil meski proses berlangsung ribuan kali, sehingga target suhu yang ditetapkan tidak akan berubah dari satu batch ke batch lainnya. Komponen-komponen pembentuk lampu ini dirancang agar cocok digunakan di ruang bersih, dengan penggunaan bahan-bahan yang menghasilkan emisi gas yang rendah serta struktur yang mampu mengontrol partikel-partikel kecil yang bisa merusak proses litografi.