<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>Fotoresist on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
		<link>http://ir-heater-now.com/id/tags/fotoresist/</link>
		<description>Recent content in Fotoresist on Immediate Infrared Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>id</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-now.com/id/tags/fotoresist/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>Lampu pemanas untuk photoresist</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/id/posts/photoresist-baking-lamp/</link>
				<pubDate>Thu, 18 Jun 2026 01:01:07 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-now.com/id/posts/photoresist-baking-lamp/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/0a976f8a438e1a813cc995e9355a4471.png&#34; alt=&#34;Lampu pemanas untuk photoresist&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;Di proses litografi, proses pemanasan yang dilakukan bukan sekadar “langkah termal” biasa. Proses ini merupakan batas antara kualitas pola yang dihasilkan dan kebutuhan untuk &lt;a href=&#34;https://o-yate.com&#34;&gt;melakukan&lt;/a&gt; perbaikan yang sebenarnya tidak diinginkan. Photoresist sangat sensitif terhadap perubahan suhu; setiap perubahan suhu sekecil satu atau dua derajat saja dapat merusak kualitas pola yang dihasilkan.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;&lt;strong&gt;Yang penting secara teknis:&lt;/strong&gt;&lt;br&gt;&#xA;Kami menggunakan lampu halogen berfrekuensi rendah yang berada dalam selubung kuarsa. Panas yang dihasilkan cepat dan kering, dengan tingkat partikel yang rendah. Pengukuran yang penting adalah keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, yaitu ±0,1°C. Tingkat repetibilitasnya juga harus tetap konstan, sehingga setiap proses pemanasan menghasilkan hasil yang sama seperti sebelumnya.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
