
Di proses litografi, proses pemanasan yang dilakukan bukan sekadar “langkah termal” biasa. Proses ini merupakan batas antara kualitas pola yang dihasilkan dan kebutuhan untuk melakukan perbaikan yang sebenarnya tidak diinginkan. Photoresist sangat sensitif terhadap perubahan suhu; setiap perubahan suhu sekecil satu atau dua derajat saja dapat merusak kualitas pola yang dihasilkan.
Yang penting secara teknis:
Kami menggunakan lampu halogen berfrekuensi rendah yang berada dalam selubung kuarsa. Panas yang dihasilkan cepat dan kering, dengan tingkat partikel yang rendah. Pengukuran yang penting adalah keseragaman suhu di seluruh permukaan wafer, yaitu ±0,1°C. Tingkat repetibilitasnya juga harus tetap konstan, sehingga setiap proses pemanasan menghasilkan hasil yang sama seperti sebelumnya.
Sistem ini dirancang untuk digunakan di ruang bersih kelas 1 hingga 100, dengan tingkat partikel yang mendekati nol. Sistem ini mampu mempertahankan profil termal yang stabil selama 24/7. Kita juga mengukur stabilitas hasil produksi selama lebih dari 5.000 jam. Konsumsi energi dikendalikan agar tetap dalam batas yang ditentukan, sehingga pengeluaran energi tetap terkontrol.
Mengapa cara ini efektif dalam proses photoresist:
Proses pemanasan perlu dilakukan sedemikian rupa sehingga pelarut dapat dikeluarkan tanpa menyebabkan photoresist mengalir atau terciptanya tekanan yang berlebihan. Dengan kontrol yang ketat, ketebalan garis pola akan meningkat, dan masalah akibat adanya busa pada permukaan photoresist akan berkurang. Hal ini memudahkan proses pencocokan pola dengan template yang digunakan.
Dengan demikian, jumlah perbaikan yang diperlukan berkurang, kapasitas produksi meningkat, dan konsumsi energi pun berkurang, karena lampu dapat mencapai suhu yang ditentukan dengan cepat dan mempertahankannya tanpa melebihi batas yang ditetapkan.
Apa yang perlu diperhatikan saat menggunakan sistem ini:
Lampu ini dapat digunakan dengan baik, tetapi antarmuka termalnya harus sesuai dengan kondisi chamber tempat proses coating dilakukan. Aliran gas, toleransi pemasangan, dan massa termal juga penting. Proses penyetelan hanya membutuhkan waktu singkat—cukup atur nilai PID sesuai dengan karakteristik chamber tersebut.
Setelah disetel dengan benar, sistem akan beroperasi secara stabil dengan pemeliharaan yang minim. Namun, umur lampu memiliki batasan tertentu; rencanakan jadwal penggantian lampu sejak awal agar tidak terkejut nantinya.