Lampe halogène pour système RTP

Sat, 20 Jun 2026 01:57:12 +0800

Dans l’atelier de lithographie, une variation de 0,2 °C sur la température du wafer pendant le processus de séchage du réactif photo-résist peut considérablement compromettre les résultats obtenus. Dans les systèmes RTP, cette lampe n’est pas simplement une source de chaleur : c’est aussi l’élément clé pour assurer une uniformité thermique et une reproductibilité optimales.

Nous fabriquons des lampes halogènes pour ces systèmes, avec un contrôle spectral précis et une réponse rapide. La géométrie du filament, l’enveloppe en quartz ainsi que le système de réflexion sont tous conçus pour créer une zone chaude stable, où l’uniformité de température sur le wafer reste comprise entre ±0,1 °C. La puissance délivrée par la lampe reste constante au cours de milliers de cycles, ce qui permet de maintenir un niveau de température stable d’un lot à l’autre. L’assemblage de ces lampes est compatible avec les environnements stériles, car elles utilisent des matériaux à faible émission de gaz et une structure qui limite les particules polluantes, essentiel pour éviter toute contamination dans le processus de lithographie.

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Lampe halogène pour système RTP