Chauffage infrarouge pour pièces micro wafer

Wed, 03 Jun 2026 01:20:58 +0800

Sur le plan de lithographie, on apprend rapidement qu’une dérive de 0,5°C de la température de cuisson déplace les dimensions critiques de quelques nanomètres — et c’est ainsi qu’un grand nombre de wafers deviennent des rebuts. Les chauffages infrarouges à ondes courtes pour les pièces micro wafer répondent directement au problème, en maintenant le comportement thermique dans la fenêtre process.

Ce qui importe, techniquement
Nous fabriquons des émetteurs infrarouges à ondes courtes avec une enveloppe en quartz à réponse rapide, calibrée aux budgets thermiques des semiconducteurs. Sur la zone de cuisson, l’uniformité au niveau wafer reste à ±0,1°C, garantissant la répétabilité du flux de photoresist et de l’élimination des solvants, lot après lot. Les chauffages fonctionnent avec une faible émission de particules, compatibles avec les classes de salle blanche 1 à 100. La puissance de sortie reste stable pendant plus de 5 000 heures, avec une dérive minimale.

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