Émetteur infrarouge halogène en quartz

Fri, 03 Jul 2026 03:01:40 +0800

Sur le poste de lithographie, un écart de demi-degré dans les paramètres de cuisson du photo-résiste suffit à perturber le contrôle des dimensions critiques. L’élimination des solvants dans le photo-résiste devient alors imprécise, et c’est ce qui entraîne des erreurs lors de la cuisson finale. L’uniformité thermique sur toute la surface de la puce n’est pas un avantage supplémentaire : c’est plutôt une exigence fondamentale du processus.

Ce qui compte techniquement Les émetteurs infrarouges à halogène en quartz permettent de délivrer de la chaleur exactement là où c’est nécessaire, rapidement, avec un contrôle spectral précis. Leur spectre de rayonnement à longues longueurs d’onde est adapté pour assurer une absorption optimale par le photo-résiste, ce qui rend les cycles de cuisson rapides et reproductibles. Nous parvenons à maintenir une uniformité de température de ±0,1 °C sur toute la surface de la puce, grâce à un système de contrôle en boucle fermée. Le temps de réponse est mesuré en millisecondes.

Lampe halogène pour système RTP

Sat, 20 Jun 2026 01:57:12 +0800

Dans l’atelier de lithographie, une variation de 0,2 °C sur la température du wafer pendant le processus de séchage du réactif photo-résist peut considérablement compromettre les résultats obtenus. Dans les systèmes RTP, cette lampe n’est pas simplement une source de chaleur : c’est aussi l’élément clé pour assurer une uniformité thermique et une reproductibilité optimales.

Nous fabriquons des lampes halogènes pour ces systèmes, avec un contrôle spectral précis et une réponse rapide. La géométrie du filament, l’enveloppe en quartz ainsi que le système de réflexion sont tous conçus pour créer une zone chaude stable, où l’uniformité de température sur le wafer reste comprise entre ±0,1 °C. La puissance délivrée par la lampe reste constante au cours de milliers de cycles, ce qui permet de maintenir un niveau de température stable d’un lot à l’autre. L’assemblage de ces lampes est compatible avec les environnements stériles, car elles utilisent des matériaux à faible émission de gaz et une structure qui limite les particules polluantes, essentiel pour éviter toute contamination dans le processus de lithographie.

Halogène on Immediate Infrared Heating Solutions

Émetteur infrarouge halogène en quartz

Lampe halogène pour système RTP