<?xml version="1.0" encoding="utf-8" standalone="yes"?>
<rss version="2.0" xmlns:atom="http://www.w3.org/2005/Atom">
	<channel>
		<title>System on Immediate Infrared Heating Solutions</title>
		<link>http://ir-heater-now.com/fa/tags/system/</link>
		<description>Recent content in System on Immediate Infrared Heating Solutions</description>
		<generator>Hugo</generator>
		<language>fa</language>
		
		
		
		
			<lastBuildDate>Sat, 20 Jun 2026 01:57:12 +0800</lastBuildDate>
		
			<atom:link href="http://ir-heater-now.com/fa/tags/system/index.xml" rel="self" type="application/rss+xml" />
			<item>
				<title>لامپ هالوژنی برای سیستم RTP</title>
				<link>http://ir-heater-now.com/fa/posts/halogen-lamp-for-rtp-system/</link>
				<pubDate>Sat, 20 Jun 2026 01:57:12 +0800</pubDate>
				<guid>http://ir-heater-now.com/fa/posts/halogen-lamp-for-rtp-system/</guid>
				<description>&lt;p&gt;&lt;img src=&#34;http://ir-heater-now.com/images/eeeb9669114c0c0a0b2bef3f902d01a9.png&#34; alt=&#34;لامپ هالوژنی برای سیستم RTP&#34;&gt;&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;در فرآیند لیتوگرافی، تغییر دما در حد ۰.۲ درجه سانتی‌گراد در طول فرآیند گرم کردن ویفر، می‌تواند به طور ناخودآگاه باعث کاهش دقت و کیفیت محصول شود. در سیستم‌های RTP، آن لامپ صرفاً منبع حرارتی نیست؛ بلکه عامل مهمی برای حفظ یکنواختی حرارتی و تکرارپذیری فرآیند است.&lt;/p&gt;&#xA;&lt;p&gt;ما لامپ‌های هالوژنی برای سیستم‌های RTP طراحی می‌کنیم که دارای کنترل دقیق رنگ سپکتری و پاسخ سریعی باشند. شکل رشته‌های فیلامنت، پوشش کوارتزی و مسیر بازتاب نور، همگی به گونه‌ای تنظیم شده‌اند که یک منطقه حرارتی پایدار ایجاد شود؛ به گونه‌ای که یکنواختی دما در سطح ویفر در حد ±۰.۱ درجه سانتی‌گراد باقی بماند. خروجی انرژی لامپ در طول هزاران چرخه ثابت باقی می‌ماند؛ بنابراین بودجه حرارتی مورد نیاز برای فرآیند، از یک سری تولید به سری دیگر تغییر نمی‌کند. ساختار لامپ نیز متناسب با محیط‌های استریل است؛ از موادی با میزان گاز کم استفاده شده و ساختار لامپ به گونه‌ای طراحی شده که میزان ذرات آلاینده کاهش یابد؛ چرا که لیتوگرافی نمی‌تواند با آلودگی تحمل کند.&lt;/p&gt;</description>
			</item>
	</channel>
</rss>
